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面议32BF-4M5P精密研磨抛光设备
面议产品用途、适用范围及特点
本机主要用于蓝宝石片状材料的单面抛光,也可用于碳化硅、石英、硅片、锗片、铌酸锂、玻璃等硬脆材料平行平面的单面高精度、高效率抛光。
该机采用触摸界面及PLC控制。为用户提供开放式的图形操控界面,充分发挥机械硬件性能;该机主传动具有传动链短、稳定可靠等特点;四个上抛头主动旋转,压力控制采用电气比例阀任意设定,且每个头均可单独控制;上下抛盘均采用循化冷却水强制冷却,温度控制精确。
设备传动结构及布局
4.1主轴系统位于设备的下方,由电机通过窄V带拖动蜗轮蜗杆减速箱,减速箱与轴直连,保证了其运转精度, 下盘采用交叉磙子轴承定位支撑,运转刚度和精度都得到了良好的保障,下盘轴下部装有旋转接头,用于抛盘内通冷却水;
4.2上抛光系统头位于设备的上部,上抛光头的升降及加压由气缸实现,上盘设有冷却水通路用于上抛头的冷却,上抛头的旋转由减速电机通过齿轮直接驱动;
4.3在下抛盘中间设有可升降的一个中心导轮装置,在接液盆边缘部位设有四个外导轮装置,二者配合可实现工件盘的自动定位;
4.4在设备的上部横梁正面设有主操作面板,可进行参数设定,运行监控等功能,在横梁的侧面各有两个小操纵板用于四个上抛头的升降操作;
4.5在设备后部箱体上装有液路系统,设有上下盘冷却水、抛光液、清洗水的通路;
4.6在设备的前部箱体与横梁两侧装有前立柱,用于横梁的辅助支撑,立柱高度方向可微调;
4.7在箱体的右侧设有两个加油口,用于主轴两组轴承的润滑;
4.8在横梁上装有红外测温装置,用于抛盘盘面温度的监测;
4.9在下抛盘的外侧设有可滑动的防护罩,可防止工作液的飞溅,减少有害气体的溢出;
4.10抛光液供给系统具有抛光液冷却、抛光液搅拌等功能;
4.11历史数据(温度、压力、转速、时间等)可导出
4.12界面密码分级管理,可根据 不同权限设置