桌面型RTP快速升温退火炉

桌面型RTP快速升温退火炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-04-07 10:30:18
117
产品属性
关闭
东莞燕园半导体科技有限公司

东莞燕园半导体科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

简单介绍 ●Rapid Thermal Annealing/快速升溫退火爐●高溫退火/高溫擴散(Annealing / Diffusion)●金屬合金/砷化鎵合金(Metal Alloy, GaAs Contact Alloy)●硼磷矽玻璃回熔(PSG/BPSG Reflow)●氧化製程(Trench Oxidation)●閘極介電製程(Gate Dielectric Formation)●多晶矽退火(Poly–Si Annealing)●鈦矽化合物/氮化物(Ti Silicide / Salicide / Nitride)

详细介绍

设备名称:快速退火炉

设备厂商:中国台湾技鼎

工作原理:快速退火炉是一种材料快速加热到一定温度并维持一定时间,然后再快速降温。

用途:释放应力;增加材料延展性和韧性;产生特殊显微结构;应用于半导体材料、器件、新材料等的快速热处理(如快速退火、合金等工艺)


技术指标:

1. 样品尺寸:6英寸及以下

2退火温度: 100-1250℃可调,控温精度1℃

3. 温度均匀性:1000℃下,6英寸晶圆≤±1%

4.反应气氛;真空、N2、O2、空气

上一篇:真空炉的分类和用途 下一篇:真空炉
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话: