气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。
1、化学气相沉积（CVD）：将工件置于反应室中，抽真空并加热至900~1100℃。如要涂覆TiC层，则将钛以挥发性氯化物（如TiCl4）与气体碳氢化合物（如CH4）一起通入反应室内，这时就会在工表面发生化学反应生成TiC，并沉积在工件表面形成6~8μm厚的覆盖层。工件经气相沉积镀覆后，再进行淬火，回火处理，表面硬度可达到2000~4000HV。
2、物理气相沉积（PVD）：物理气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气象沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，目前应用较广的是离子镀。离子镀是借助于惰性气体辉光放电，使镀料气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC,TiN覆盖层，硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强，适用于高速钢工具，热锻模等。
气相沉积实验炉为沉积炉主体内有加热室，水冷电极，测温热电偶，是处理工件的核心部分。
气相沉积实验炉产品优势以及特点：
气相沉积实验炉采用多温区独立控温，温度均匀性好；
气相沉积实验炉采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强；
气相沉积实验炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；
气相沉积实验炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。
