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HVG-06069卧式真空石墨化炉
卧式真空石墨化炉用于材料的高温石墨化处理 参考价面议 -
VVP-0608立式真空裂解炉
立式真空裂解炉可用于碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维的高温裂解工艺。 参考价面议 -
HVP-060609卧式真空裂解炉
卧式真空裂解炉可用于碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维的高温裂解工艺。 参考价面议 -
VVC-0608立式真空碳化炉
立式真空碳化炉可用于复合材料的低温碳化或高温碳化处理。也可用于特殊材料在有氧环境下的脱脂、烧结等处理。 高温碳化：采用石墨作为加热体（有碳加热环境），gao温度可达1600℃以上。 低温碳化：采用金属作为加热体（无碳加热环境），gao温度1000℃。 参考价面议 -
HVC-060609卧式真空碳化炉
卧式真空碳化炉可用于复合材料的低温碳化或高温碳化处理。也可用于特殊材料在有氧环境下的脱脂、烧结等处理。 高温碳化：采用石墨作为加热体（有碳加热环境），gao温度可达1600℃以上。 低温碳化：采用金属作为加热体（无碳加热环境），gao温度1000℃。 参考价面议 -
VCVD-0305-SIC立式化学气相沉积炉（SiC、BN）
立式化学气相沉积炉（SiC、BN）可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等 参考价面议 -
HCVD-060609-SIC卧式化学气相沉积炉（SiC、BN）
卧式化学气相沉积炉（SiC、BN）可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等 参考价面议 -
VCVD-0305-C立式化学气相沉积炉（沉积炭）
立式化学气相沉积炉（沉积炭）用于以碳氢气体（如C3H8、CH4等）为碳源的材料表面或基体的CVD/CVI处理 参考价面议 -
HCVD-060609-C卧式化学气相沉积炉（沉积炭）
卧式化学气相沉积炉（沉积炭）主要用于以碳氢气体（如C3H8、CH4等）为碳源的材料表面或基体的CVD/CVI处理 参考价面议