一、设备用途

本设备广泛应用于大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对材料进行烧结处理。立式结构，适用于金属材料在高真空，高温条件下进行退火、钎焊、烧结、除气处理，同时也适用于石英材料的脱羟处理。

二、结构说明
此设备由炉体、真空系统及电气控制系统等组成。
炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构，炉壳温度不超过50℃。测温采用钨铼热电偶，保证测温精度。真空系统采用二级泵或三级泵，如客户有要求可增加分子泵。电器元件均为产品，所用程序仪表，客户可自行设定程序，自动完成烧结过程。

三、设备型号

 注：若有兴趣请详细咨询，很高兴与你们讨论。

      可根据你们要求非标准性设计真空炉。

      相信你们会定制一个非常好的真空炉。

  用于大专院校、科研单位、航空航天、大中企业工业单位的研发及生产，远销北美、欧洲和亚洲等广大海外地区。