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技术参数：
1. 高通量Zeiss光学系统
2. 波长范围：190-900nm，可变狭缝0.2、0.5、0.8、1.2nm
3. 全自动6灯转换
4. 横向加热石墨炉技术，加热速率可达3000度/秒
5. 三磁场塞曼扣背景，磁场方向可调，磁场强度0-1T可调，同时可选择2-磁场模式
6. 可固体进样
主要特点：
1.紧凑型设计，石墨炉电源内置
2.采用的横向加热石墨炉技术
3.无二的液体和固体石墨炉分析系统
4.配置3-磁场塞曼背景校正
5.氢化物-石墨炉直接联用
6. ZEEnit650可同时配置三磁场塞曼和氘空心阴极灯背景校正技术
