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产品介绍：
Chimera冷却系统同样用于粉末X射线衍射平台，利用封闭循环的He气对样品台进行控温。适用于反射模式的垂直测角仪，为粉末样品的高低温实验提供温控方案。
原理同PheniX冷却系统，无需液氦的消耗
适用于市场上大多数垂直测角仪；
可进行远程监视、控制；
用于反射模式衍射实验，非常适合粉末样品的相变分析
技术参数
| 温度范围 | 70-525K |
| 控温精度 | 0.1 K |
| 降温速度 | 525K~室温，用时50 min 室温~100K，用时35 min |
| 升温速度 | 100K~室温，用时40 min 室温~525K，用时40 min |
| 冷却介质 | 封闭循环的氦气 |
