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AHSms-15/15/15-1700A1-17真空气氛炉(四代)
面议1400度真空气氛烧结炉(四代)
面议AHSms-20/20/30-1700A2-17真空气氛炉(四代)
面议AHSms-30/30/40-1700A4-17真空气氛炉(四代)
面议1200℃ 真空气氛烧结炉(A1-12四代)
面议AHSa-15/15/15-1200A1-12上海真空气氛炉(四代)
面议AHSmo-15/15/15-1700A1-17氢气炉
面议1700℃箱式可控气氛炉(三代)
面议AHSmo-20/20/30-1700A2-17氢气炉
面议AHSmo-30/30/40-1700A4-17氢气炉
面议AHSms-45/45/45-1700A5-17真空气氛炉(四代)
面议A5-17氢气炉
面议一、设备用途
该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层壳体间配有风冷系统,能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗膛进气口,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能预抽真空,该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
二、技术参数
品名 | 工作区尺寸(宽×高×长 mm) | 产品编号 | 容积 | 升温速率 | 降温速率 | 真空度 | 可通气体 | 加热元件 |
三代气氛炉 | 100*100*100 | 1L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
150*150*150 | A1-17 | 3.4L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
150*150*200 | 4.5L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | ||
200*200*300 | A2-17 | 12L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*300 | A3-17 | 27L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*400 | A4-17 | 36L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 |