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AHSms-15/15/15-1700A1-17真空气氛炉（四代）
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1400度真空气氛烧结炉（四代）
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AHSms-20/20/30-1700A2-17真空气氛炉（四代）
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AHSms-30/30/40-1700A4-17真空气氛炉（四代）
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1200℃ 真空气氛烧结炉（A1-12四代）
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1400℃箱式气氛炉（三代）
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AHSa-15/15/15-1200A1-12上海真空气氛炉（四代）
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1700℃箱式气氛炉（三代）
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AHSmo-15/15/15-1700A1-17氢气炉
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AHSmo-20/20/30-1700A2-17氢气炉
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AHSmo-30/30/40-1700A4-17氢气炉
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AHSms-45/45/45-1700A5-17真空气氛炉（四代）
面议一、设备用途
该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，双层壳体间配有风冷系统，能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗膛进气口，可以通氩气、氮气等惰性气体，并能预抽真空，该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
二、技术参数
品名 | 工作区尺寸(宽×高×长 mm) | 产品编号 | 容积 | 升温速率 | 降温速率 | 真空度 | 可通气体 | 加热元件 |
三代气氛炉
| 100*100*100 |
| 1L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 |
150*150*150 | A1-17 | 3.4L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
150*150*200 |
| 4.5L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
200*200*300 | A2-17 | 12L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*300 | A3-17 | 27L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*400 | A4-17 | 36L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 |
