真空干燥箱真空度可达到133Pa，整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。
产品型号： HMDS-6210 HMDS 带预处理系统真空干燥箱
电源电压：AC 380V±10%/50Hz±2%
输入功率：4000W
控温范围：室温+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa
容积：210L
工作室尺寸（mm）：560*640*600
外形尺寸（mm）：720*820*1750
载物托架：3块
时间单位：分钟
真空泵：国内好品牌，上海“慕鸿”型号：DM-4，旋片式油泵。
真空干燥箱产品特点：
1、真空干燥箱机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。
4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。
真空干燥箱HMDS 预处理系统的必要性：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
