薄膜制备及处理（各种PVD/CVD薄膜制备、处理设备）

磁控溅射镀膜设备：多靶、DC/RF、衬底加热，高真空（10^-8mbar）、清洗+刻蚀；既有适合实验室样制备设备，也有适合大批量生产设备，例如一次性沉积54个4英寸样品。

电子束蒸镀设备：高真空（10^-8mbar）/超高真空（10^-10mbar），可旋转/可大角度倾斜（精度和重复性优于0.01°），国内外大量参考用户；可用于约瑟夫森结、shadow evaporation.

离子束溅射沉积：离子束溅射+离子束辅助沉积、OMS（230-1700nm）、均匀性优于±1%@14英寸窗口；可沉积Ta₂O₅, SiO₂, ZrO₂, HfO₂, Al₂O₃, Ti_xS_1-xO₂, Hf_xS_1-xO₂, Zr_xS_1-xO₂

高真空CVD设备：结合MBE和CVD优点，可生长III-V半导体薄膜、Si, SixGe1-x, FeSi₂以及氧化物薄膜，LiTaO₃,  TiO₂, Al₂O₃, 掺铒Al₂O₃, Y₂O₃, CdO, HfO₂, LiNbO₃, MgO, ErSiO, ZnO, ZrO₂；适合4-14英寸衬底（均匀性优于+/-2%）、一次性研究厚度和化学成分梯度对材料性能影响、一次性制备3D复杂结构

离子减薄仪（刻蚀机）： RIBE，SIMS、真空度10^-8mbar、均匀性±4%@100mm晶圆、样品台可旋转/可大角度倾斜、全自动控制；可用于过度金属、PZT、磁性材料处理；处理12英寸衬底。

超高真空多功能镀膜设备：两腔、三腔、四腔，load lock+蒸镀+溅射+氧化/清洗/刻蚀，真空度10^-9mbar，沉积速率分辨率0.01nm/s，全自动控制；可用于超导约瑟夫森结制备。

高精密光学镀膜设备：热蒸镀+电子束蒸镀+离子束辅助沉积；OMS (DUV, VIS, IR)，衬底旋转+倾斜，6英寸样品+高均匀性，全自动控制。

类金刚石（DLC）沉积系统：直径可达600mm，激励频率13.56MHz，沉积速率大于10nm/min，8-11.5μm增透膜沉积，胶带测试|橡皮擦测试|海水侵泡测试|盐雾测试|循环温度测试|循环湿度测试。

金刚石制备及应用 （各种金刚石制备设备、切割抛光、金刚石应用）

热丝化学气相沉积系统：HFCVD设备，用于金刚石窗口、纳米晶金刚石晶圆制备，12英寸甚至更大面积窗口/薄膜制备。可用于（RF）MEMS, Bio-sensor, 3D结构，电化学等领域。

微波等离子体CVD系统：MPCVD用于合成单晶、多晶金刚石制备，超高纯度（杂质低于1ppb），光学级金刚石窗口合成、电子级单晶及掺杂；用于宝石、单晶刀具、大功率器件、输出窗口、量子计算等。

金刚石及其应用：提供HPHT种子、CVD单晶/光学级窗口/纳米晶晶圆、纳米粒子。

激光切割机：钻石切割、雕刻，切割厚度20mm/直径>100mm；切口宽度及孔径20μm

钻石抛光机：抛光机+抛光液/抛光膏，抛光钻石可获得Ra≈9埃。

首饰钻石仪器：切工等级评定仪、粗钻/精钻分析仪、钻石定心仪（居中）、钻石雕刻机

高能密度物理（惯性约束聚变仿真软件、等离子体诊断、靶丸）

模拟仿真软件：辐射流体力学软件、辐射原子光谱分析软件、3D成像及光谱分析软件、3D热辐射及CAD软件、状态方程和不透明度、原子物理数据库、PIC模拟软件；应用于高能密度物理、激光等离子体、放电等离子体、天体物理、Z-pinch、原子物理、ICF、MHD等领域的仿真。

微波干涉仪：Ka/S波段，时间分辨率可达1μS；可用于常压等离子体、真空等离子体、尘埃等离子体、等离子体推进（电子密度测量、等离子体速率测量等）

激光色散干涉仪：时间分辨率可达1nm、等离子体直径100μm-10m、可以测量电子密度/气体密度（液氚/氘）/材料厚度/晶体光学系数等。

原子光谱仪（AES, AAS）：波长250-1000 nm；时间分辨率100μs、10ns可选

金刚石靶丸（直径2mm）、金刚石超高功率窗口（1MW不用冷却）；

稠密等离子体聚焦装置（DPF）是一种稠密、热爆电离气体发出的X射线或中子短脉冲。可应用于极紫外或软X射线光刻；聚变材料测试；材料探测中子源；离子束源；电子束源；X光线照相术。

加速器质谱仪（第三代¹⁴C AMS年代测量系统）

第三代加速器质谱仪(AMS)具有占地面积小(尺寸3.4×2.6×2m)、耗电少(200KV)、操作简单（全自动）、精度高（优于0.2%, 可与大型AMS比拟）等优点，是*的商业化小型放射性碳测年系统。

我们还提供*兼容的AGE3第三代全自动石墨化系统（燃烧+石墨化、全自动、高效率、微剂量、交叉污染<0.1%）、PSP气动压样装置、FED铁制分配器、TSE管密封装置、GID气体电离探测器（氢-锕、100keV- MeV）、GIS气体接口系统、CHS碳酸盐处理系统。

光电器件设计及仪器（设计软件、材料、检测仪器）

激光设计软件：固体/光纤激光器设计，激光膜层设计，光与物质相互作用，激光传输（考虑湍流）

激光测距仪：光纤激光测距仪用于中长距离、静态动态、多平台（海陆空）、多目标光电及火控系统测量；微型激光测距仪用于UAVs, UGVs 光电应用、测高、飞行位置控制、短程障碍物探测

激光镜镀膜设备：均匀性优于±1%@14英寸窗口

钻石激光器专用：钻石激光晶体/热沉片/输出窗口、金刚石窗口镀增透膜 (可咨询具体指标)

光学分析设计软件：光栅设计软件、衍射光学元件设计、物理光学模拟软件

全光谱太阳模拟器：AAA级、2-12个光谱区域、60-300mm辐照面积、可测量新一代四结太阳能电池

蓝宝石窗口抛光：抛光机+纳米钻石抛光剂，可获得表面粗糙度Ra=1.2nm

复杂系统计划管理软件：用于复杂科学、复杂相关联系统设计流程建模和分析，例如飞机、潜艇、战舰的设计及制造过程中计划及管理，目前包括波音、空客、罗罗公司、美国等单位均在使用。

电/磁场软件及仪器

电磁场仿真软件：静电及高压工程模块、电磁铁及永磁铁模块、电子/粒子枪及加速器模块、X射线光源及成像模块、射频及微波技术模块、固体及生物介质传热模块。

金刚石磁力仪：激光功率<150mW, 微波功率：6db(4mW), 带宽：DC-5kHz，灵敏度：5nT/sqrt(Hz)

磁场相机：用一个集成了16384个微霍尔传感器的二维阵列芯片作为探测面，一次性测量一个面上16384个点的磁场分布，得到一幅完整的磁场分布图像（市面上的其他仪器只测量一个点的磁场）。磁场相机可以用于测量磁偏角，可以测量充磁缺陷和磁材缺陷，可以设置强度和磁偏角公差对产品进行流水线测试和筛选，还可以测量永磁转子表磁和进行谐波分析。

3D磁场相机：绘制3D磁场，空间分辨率0.1 x 0.1 mm²，视场12.7 x 12.7 mm²，场范围（Bx,By,Bz）：+/- 1T，磁场分辨率(Bx,By,Bz)：0.1mT，磁场精度：0.5mT@0-100mT，0.5%@100-500mT，1%@500-1000mT。

磁场测量和分析软件：用于实时测量和高级数据分析；

磁铁分析软件：用于单轴永磁铁高级分析；

微型工作台：用于磁铁精密且可重复定位；

高速3轴扫描仪：用于大型磁铁超快测量；

高速转子检测仪：用于永磁转子超快测量。

应用产品及领域： 应用于传感器系统、开关和继电器、电动机、螺线管、磁耦合、麦克风和扬声器、束导系统、波荡器、永磁轴承、测量仪器、科研设备、新型磁性材料的产品开发和诊断，涉及汽车、工业、医学、消费电子、磁铁生产、科学研究等多个领域。