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在线式硬脂酸盐高速研磨分散机、在线式硬脂酸盐研磨分散机 ,硬脂酸钠研磨分散机、*研磨分散机、硬脂酸钙研磨分散机、硬脂酸铅研磨分散机、硬脂酸铝研磨分散机、硬脂酸镉研磨分散机、硬脂酸铁研磨分散机、硬脂酸钾研磨分散机,硬脂酸锌研磨分散机,硬脂酸盐研磨分散机
IKN研磨分散机设计*,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
广泛用于制化妆品、塑料耐寒增塑剂、脱模剂、稳定剂、表面活性剂、橡胶硫化促进剂、防水剂、抛光剂、金属皂、金属矿物浮选剂、软化剂、医药品及其他有机化学品。
另外,还可用作油溶性颜料的溶剂、蜡笔调滑剂、蜡纸打光剂、硬脂酸甘油脂的乳化剂等。
该品在食品工业中用作润滑剂、消泡剂及食品添加剂硬脂酸甘油脂、硬脂酸山梨糖醇酐酯、蔗糖酯等的原料。用作助剂的原料及日用化工产品的原料。
硬脂酸盐研磨粉碎机
因为好多物料单用一种胶体磨或分散机是无法达到客户所要求的理想粒径要求已经分散效果要求。IKN客户在IKN实验室实验室做完实验后经常会遇到这样的痛苦,物料已经用N多种国产研磨设备处理过了,达不到效果,后放下国产设备的价格优势找到中德合作的IKN,虽然IKN研磨分散设备制造精密,但也不是*的,有些物料例如硬脂酸钙还有茶叶鲜叶还是不能处理到客户理想要求(硬脂酸钙处理到2-3μm,茶叶鲜叶处理到200目),在客户要求IKN重新做处理方案时,IKN研发工程师协同客户一起研发出了研磨分散机,IKN公司总经理为研磨分散机定型号为CMD2000系列。研磨分散机的研制,成功解决了原有设备粒径处理不理想的问题。
研磨分散机总体上来说其实是将胶体磨跟分散乳化机合二为一,在一台设备上完成了两台设备联合运行才能达到的效果。IKN抹茶粉研磨分散机开机转速跟IKN胶体磨已经IKN三级高剪切乳化机一样,都可以达到9000rpm,经变频后转速亦可升至14000rpm。
一般安装方式是乳化头在下,磨头在上,磨头有胶体磨跟锥体磨两种磨头可选,乳化头提供2P、2G、4M、6F、8SF 等共五种分散乳化头可供选择。磨头跟乳化头的选择需要根据具体物料的处理要求来定。我们在处理抹茶粉的时候因为处理要求需要将鲜茶叶处理到200目以上,我们的实验室工程师经过多次调试发现只有锥体磨配8SF分散乳化头循环5-6遍可达到抹茶粉鲜叶200目的处理要求。在设备配置保证的同时,还需将设备转速变频至12500rpm,使用循环水冷却控制温度。物料运行温度不得低于30度。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
IKN改进型胶体磨的技术参数:
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和产品的要求。
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