斯奇康多糖核酸纳米胶体磨

CMSD2000斯奇康多糖核酸纳米胶体磨

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128900 1

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2023-04-06 09:51:23
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产品简介

斯奇康多糖核酸纳米胶体磨 卡提素多糖核酸纳米胶体磨 *核酸纳米胶体磨 唯尔本多糖核酸纳米胶体磨 多功能胶体磨斯奇康多糖核酸 (BCG -PSN)是从卡介菌中提取的一种具有免疫调节功能的物质,药物别名,斯奇康、卡提素、唯尔本。

详细介绍

斯奇康多糖核酸纳米胶体磨 

研磨分散机使用说明

制备混悬液液的机械设备主要是乳化机,它是一种使油、水两相混合均匀的乳化设备,乳化机的类型主要有三种:乳化搅拌机、胶体磨和均质器。乳化机的类型及结构、性能等与乳状液微粒的大小(分散性)及乳状液的质量(稳定性)有很大的关系。如在化妆品厂广泛使用的搅拌式乳化机,所制得的乳状液其分散性差。微粒大且粗糙,稳定性也较差,也较易产生污染。但其制造简单,价格便宜,只要注意选择机器的合理结构,使用得当,也是能生产出一般复合质量要求的大众化的化妆品的。胶体磨和均质器是比较好的乳化设备。乳化机械有很大进步,如真空乳化机其制备出的乳状液的分散性和稳定性**

IKN分体式湿法粉碎机机通过皮带传送,可实现2到3倍的加速,同时立式直立的转轴,运转稳定性大大提高,同时转子动平衡性得到提高,间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机机有XX的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理,还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎,超细物料的均匀分散,以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨 也可以成为反应发生的场所,比如两种液体物料反应生成固体颗粒,通过分别通入腔体,两种物料接触时被剪切成微滴,均匀混合后反应生成的粒子大小均匀,并且粒径很小。

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点:

1 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

2 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

3 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

4 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

设备的选型要点:

1、明确使用设备所需达到的效果和目的

2、详细了解并掌握研究物料的性质(包括物理、化学性质)

3、根据物料对设备的搅拌机进行选型

4、再次确定设备的操作参数及结构设计

5、综合考虑设备的成本

 

研磨分散机采购须知:

超高速粉碎机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 湿磨机湿磨是干磨的一种安全而高效的替代方案,基于转子-定子原理。

研磨分散机机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

斯奇康多糖核酸纳米胶体磨  卡提素多糖核酸纳米胶体磨 *核酸纳米胶体磨  唯尔本多糖核酸纳米胶体磨 多功能胶体磨

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