JBX-3050MV 电子束光刻系统

JBX-3050MV 电子束光刻系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-11-23 23:39:57
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产品简介

JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。

详细介绍

产品特点:

产品规格:

拼接精度≦±3.8 nm
套刻精度≦±7 nm
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