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4510GF石墨炉 4610GF石墨炉
面议1200度气氛井式炉主要用途：
适用于各大专校校、科研院所、工矿企业主要用于真空或惰性气体中的新材料，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
炉内气氛：氮气、氩气等保护性气体
开门方式：上开门，取料
| 产品名称 | 1200度气氛井式炉 |
| 设计温度 | 1200℃ |
| 工作温度 | 1100℃ |
| 升温速率 | 10-15℃/min |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 炉膛尺寸 | Ø200*200(内径*高） |
| 密封 | 304不锈钢法兰密封 |
| 流量计 | 浮子流量计 |
| 真空度 | -0.1Mpa（真空度可以客户需要配置不同的真空系统） |
| 额定电压 | AC 220V 50/60 Hz |
| 额定功率 | 3KW |
| 期 | 一年 |
