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一、设备主要用途及特点
真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
设备结构合理，设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范，使用、操作、维修方便简捷，配套产品和元器件具有水平，可稳定、安全、可靠地满足生产需求。
二、技术参数
型号 | VHSgr-40/40/80-2000 |
设备形式 | 卧式侧装料 |
工作尺寸 | 400×400×800（mm）(宽*高*长) |
设计温度 | 2000℃ |
常用温度 | 1850℃ |
极限真空度 | 8.0×10-1Pa (空炉、冷态、经净化) |
控温精度 | ±1 |
压升率 | ≤3.0Pa/h |
控温仪表 | 日本岛电程序控温仪 |
装料方式 | 侧装料 |
