真空烘箱VO
真空烘箱 “Celsius”标准软件型号：200 / 400 / 500 20 °C ~+200 °C 10 mbar~1100 mbar 参考价面议
UN,UF,UNplus,UFplus 通用烘箱
UN和UF通用烘箱，SingleDISPLAY UNplus 和UFplus通用烘箱，TwinDISPLAY 自然对流或强制对流AtmoCONTROL软件型号：30 / 55 / 75 / 110 / 160 / 260 / 450 / 750 +30 °C ~ 参考价面议
TQC AB8000 CureView梯度烘箱
TQC CureView梯度烘箱是一款设置灵活的烘箱，用户可以将玻璃床上的测试板加热到各种温度曲线，在环境温度+5˚C至350˚C/环境温度+41˚F至662˚F之间变化。热源是32个红外卤素加热器，可以单独控制，并允许设置任何形式的温度梯度，从抛物线状梯度、上升或下降斜坡或多个温度模块变化。CureView梯度烘箱允许导入梯度图形，梯度图形由TQC Sheen CurveX烘箱记录系统测量，以便以实验室规模模拟生产过程。 参考价面议
切割式研磨机PULVERISETTE 15
适合于研磨柔软到中等硬度的干性样品和纤维性样品，或者是富含纤维素和塑料的材料。进样尺寸70 x 70 mm 参考价面议
微型研磨机 PULVERISETTE 23
适用于少量实验室样品，或悬浮液中固体样品的研磨。也可用于乳浊液的混合和均匀化处理。样品处理量为5 ml。 参考价面议
微型振动研磨机 PULVERISETTE 0
适用于实验室样品或悬浮液中固体样品的的精细研磨。适用于乳液或膏剂的匀浆。微型振动研磨机PULVERISETTE0尤其适用于RoHS试验的样品制备。 参考价面议
VibroMet™ 2 振动抛光机
VibroMet 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，从而得到无应力的制备表面，而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光，可适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）。不同于传统的振动抛光机，VibroMet 2可以产生几乎水平方向的振动，限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开，样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。 参考价面议
博势Proceq Flaw Detector 100 PA 16:64 探伤仪
升级至 Proceq 探伤仪 100 PA 16:64 会为您的设置带来更大的灵活性。附加的多路技术有助于在腐蚀映射中执行 L-Scan 以及检测大复合面板的完整性。 参考价面议
博势Proceq Flaw Detector 100 PA 16:16 探伤仪
升级至 Proceq 探伤仪 100 PA 16:16 将适用于广泛的应用，可借助内置向导和用户指南进行设置、执行和分析。针对想要了解相控阵或显示区段扫描的用户。 参考价面议
单罐行星式球磨机PULVERISETTE 6（经典型）
该研磨机利用行星公转、自转原理，研磨球在研磨碗内进行高速的运动，通过高能的摩擦力和冲击力实现样品的粉碎，可快速将样品研磨至1μm以下。适用于实验室坚硬的到软而脆的样品及悬浊液中样品的研磨，是超细粉粉碎，制药行业样品处理，新材料的制备，以及材料的机械合金和机械活化的上佳选择。行星式高能球磨机（仪）可与Fritsch公司的GTM（气体温度和压力测量系统）联用，GTM系统是的一个可以在研磨过程中测定研磨碗中气体温度和压力变化的系统。 参考价面议
微型行星式球磨机PULVERISETTE 5（经典型）
适用于快速、单批坚硬至柔软的研磨材料的精细研磨，并可将干粉或悬浮液中的固体样品研磨至胶体状细度，以及乳浊液和糊状物的混合及的均一化处理。 参考价面议
微型行星球磨机PULVERISETTE 7（加强型）
作为行星研磨机经典型的延伸，FRITSCH公司推出同系列加强型球磨机，该款球磨机可达到之前不能达到的转速，将粉碎效果降至纳米范围。比以往更快、更简易、更安全。 参考价面议

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