Aston™-质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制-伯东贸易（深圳）有限公司手机版

详细介绍

Aston™ <strong>质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制</strong>

*半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston™ Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于*半导体工艺（如沉积和蚀刻）所需的定量气体分析.

Aston™质谱分析
分子测量
快速，灵敏度达到十亿分之一检测残留气体 / 冷凝物污染.

Aston™质谱分析
提高产量
提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量

Aston™质谱分析
提高安全性
监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.

Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题

• 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程
• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物

Aston™ 质谱仪*工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中: 实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁

Atonarp Aston™ 技术参数

类型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型号	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
质量分离	四级杆
真空系统	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵
检测器	FC /SEM
质量范围	2-285		2-220		2-285
分辨率	0.8±0.2
检测限	0.1 PPM
工作温度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)		400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Aston™ 质谱仪半导体制造应用

*的工艺
原子层沉积 (ALD)
化学气相沉积 (CVD)
原子层蚀刻 (ALE)

腔室管理
干净的终点检测
指纹识别和匹配

Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化
过程安全监控
干泵保护
减排管理

质谱分析仪

沉积
化学气相沉积
钨
TEOS

蚀刻
介电,导电,金属
高纵横比 <1% 开放区域检测

EUV/光刻
SnH4 蚀刻
光掩模蚀刻

自主过程控制
模型驱动的实时过程监控

若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 罗先生

产品简介

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