在设备设计上，采用成熟、可靠、*、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流*可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
    我们公司专业生产RO＋EDI＋精混床超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势，在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、*国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。
    在LED生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用超纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质有*的要求。
    生产LED水质标准：我公司LED用超纯水出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
设备参数

型号：ZL-5012
水电阻率:根据用户要求 
电压:380（V） 
脱盐率:99.5（%） 
加工定制:是

LED光学超纯水设备用超纯水设备对水质的要求：
    新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
使用范围
  ☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
  ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

  ☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
  ☆高品质显像管、萤光粉生产
  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
  ☆实验室和中试车间
  ☆汽车、家电表面抛光处理
  ☆光电产品、其他高科技精微产品

典型LED光学超纯水设备用超纯水制备工艺：

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(工艺)
  3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(工艺)
  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(工艺)
  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)