车间废气处理设备从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

车间废气处理设备

适用场所：

① 污水处理厂预处理、生化处理、污泥处理过程恶臭气体的净化和治理。

② 垃圾处理过程中的堆放、分拣、堆肥、填埋、焚烧以及垃圾渗滤液污水处理站恶臭气体

的净化和治理。

③ 涂料与喷漆、炼焦、制药、橡胶塑料、印染皮革、有机染料及合成材料厂和发酵

制药、石油化工、制鞋厂、印刷厂、造纸厂、畜牧养殖、饲料加工、粪便处理等恶臭气体净化和治理。

特点：

① 采用单级或多级串联洗涤，对污染物去除*，去除效率高。

② 处理高浓度恶臭废气具有明显优势，运行稳定。

③ 具有启动速度快、可间歇运行、耐冲击负荷强、

受温度影响小、运行稳定等特点。

④ 自动化程度高，占地面积小。

Wintop-CW化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。