胶粒致密均匀硅溶胶高速分散机性能特点
单质硅水解法硅溶胶分散机上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
特点：
1、CMSD2000研磨分散机为立式分体结构，经密的零部件配合运转平稳，运行噪音在45DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到更低，保证机器连续24小时不停机运行。
2、CMSD2000研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CMSD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；suo有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMSD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
胶粒致密均匀硅溶胶高速分散机技术参数
| 型号 | 流量
L/H | 转速
rpm | 线速度
m/s | 功率
kw | 入/出口连接
DN |
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
