排气门金相样品研抛设备 磨抛机双盘定速
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排气门金相样品研抛设备 磨抛机双盘定速
排气门金相样品研抛设备 磨抛机双盘定速

MP-2D排气门金相样品研抛设备 磨抛机双盘定速

参考价: ¥6300~¥8500/台

具体成交价以合同协议为准
2023-06-21 13:48:12
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济南方圆试验仪器有限公司

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产品简介

排气门金相样品研抛设备 磨抛机双盘定速适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作

详细介绍

MP-2D双盘双控金相试样磨抛机属于定速磨抛设备,试验速度为300r/min和600r/min,设备操作方便,可供双人同时操作,或单人单盘操作。

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技术参数

工作电压: 380V 50HZ

工作方式: 双盘双控

磨抛盘直径: Φ203mm(可订制Φ250mm)

转速: 300转速/分钟,600转速/分钟(两级定速)

砂纸直径: Φ200mm(可订制Φ250mm)

电动机: Yc712,120W/250W

外形尺寸: 700x600x270mm

重量: 50KG

产品简介

MP-2D型金相试样磨抛机为双速双驱动台式机,适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。 本机具有300转速/分钟跟600转速/分钟两种转速,从而使本机具有更加广泛的应用性,是用户用来制作金相试样的设备。

本机带有冷却装置,可以在研磨抛光时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠,是工厂、 科研単位以及大专院校实验室的理制样设备。

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二氧化硅悬浮研磨抛光液


当某些较软的、有韧性的试样,需要经过最终抛光才能达到理想效果时,应选用氧化物悬浮抛光液。

名称

说 明

粒度

包装(瓶)

二氧化硅悬浮研磨抛光液

机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH9.5用于高纯度金属及合金、矿物、陶瓷、聚合物的最终抛光。

用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。

0.04μm

500ml

机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH10用于所有材料快速最终抛光。

用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。

0.02μm

500ml

机械/化学抛光,胶状硅悬浮液,PH10     

用于高精要求产品的最终抛光。

用法:使用时按1:3加水稀释或水性润滑液

0.04μm

500ml

0.02μm

500ml

 




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