GMSD2000纳米铁氧体/石墨烯基电磁屏蔽涂料分散机
纳米铁氧体/石墨烯基电磁屏蔽涂料分散机,研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。 参考价面议GMS2000头孢噻呋水针剂超高速胶体磨
头孢噻呋水针剂超高速胶体磨,液体制剂混悬型的稳定在于使用的胶体磨的研磨性能,普通胶体磨转速3000rpm,研磨出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,*限制了新型*混悬液的推广,上海思峻高剪切胶体磨GMS2000系列转速高达18000rpm,是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 参考价面议GRS2000燕窝液态破壁高剪切均质机
燕窝液态破壁高剪切均质机,GRS2000模块主要由三层均质头构成,工作时,物料通过进料口进入分散腔,首先到达一层均质头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,完成均质。 参考价面议GMSD2000聚酰亚胺薄膜研磨分散机
聚酰亚胺薄膜研磨分散机,上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。搅拌与研磨一体,研磨效果好,能减少物料使用量,能降低生产成本。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。 参考价面议GMS2000生物活性炭材料制备剪切研磨设备
生物活性炭材料制备剪切研磨设备,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料等多种新材料的制备应用上。CMS2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备。 参考价面议GRS2000阻燃剂高剪切均质机
阻燃剂高剪切均质机,GRS2000模块主要由三层均质头构成,工作时,物料通过进料口进入分散腔,首先到达一层均质头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,完成均质。 参考价面议GMSD2000超细纤维高速高剪切分散机
超细纤维高速高剪切分散机,根据一些行业特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基础上又开发出GRS2000超高速分散机。其剪切速率可以超过100.00 rpm,转子的速度可以达到51m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强粒经分布更窄。由于能量密度*,无需其他辅助分散设备。 参考价面议GRS2000*混悬剂均质机
*混悬剂均质机,*的用途十分广泛,不仅在食品行业,医药行业也有新的应用。在医药行业中可制备成*混悬剂,一般工艺为*粉体+水+表面活性剂,通过超高速均质机处理,制备成*混悬剂。 参考价面议GMS2000药物制剂高剪切胶体磨
药物制剂高剪切胶体磨,根据我司多家客户案例,*GMS2000系列高速剪切胶体磨进行药物的研磨分散,如果对于液体制剂的体系要求更高,*GMSD2000系列超高速研磨分散机,根据具体需求,我司*性价比高的解决方案。 参考价面议SD-1L医药实验室成套真空均质乳化机
医药实验室成套真空均质乳化机,SD成套系统可充分满足医药产品的多种需求,主要应对于实验室医药产品研究及研发,能适应各种工艺的要求,如:医药产品的体系类型,无论是口服液、注射液、软胶囊、凝胶、疫苗等都可通过SD成套系统来解决。另外SD成套系统的多功能化及多样性也为医药行业提供更多的便利,如:罐体材质的选择、温度控制、PH值监测、冷却及升温、升降系统、真空系统等。 参考价面议GMSD2000阻燃腈纶分散机
阻燃腈纶分散机,先加溶液加入GMSD2000系列分散设备中,进行循环,然后加入阻燃剂A和阻燃剂B,分散均匀后,加入纺丝原液。全部加完后循环30min处理,经检测,产品达到工艺要求,产品均匀稳定、分散性好。 参考价面议GMS2000石墨烯光催化浆料胶体磨
石墨烯光催化浆料胶体磨,为了优化光催化材料,可将石墨烯和传统光催化剂相复合,与水为介质,混合分散,均匀分散后将石墨烯填充从而来改性和优化光催化剂的性能。但由于石墨烯和传统光催化剂都需要很好的分散,复合后对于研磨分散的要求更高,一般国产低速的胶体磨已经难以达到分散效果,结合多家环保企业案例,*GMSD2000系列改良型胶体磨进行石墨烯光催化复合浆料的研磨与分散,效果好,效率高。 参考价面议