真空镀膜系统

1.真空系统的结构

真空系统的结构是影响真空系统密封性和系统漏气率的关键，真空系统的结构合理与否，将直接影响系统的密封性和系统的漏气率。

（1）尽可能地避免出现小曲率半径的死角，要光滑过渡查刹于打麈抛光、清洗清扫。

（2）抽空管道、送气管道等与真空室相连接的管道，采用圆弧过渡，使气路畅通无阻，但要考虑清洗清扫的方便性。

（3）认真设计真空室http://www.pronotek。。ｃｏｍ内各种连接件的结构，使气路畅通，避免气路堵塞。

（4）打磨抛光真空系统内表面，表面越光亮就越不易气体吸附，越容易获得真空。

（5）尽可能减小真空室的体积，缩短管路系统。

2.密封形式的选择

密封形式可根据 所需真空度的高低及实际工作需要选择密封形式，对于人工晶体生长设备，一般需要的真空度在lO-3Pa以下，因此，无需采用金属密封。以TDR--70型单晶炉为例，我们选择磁性流体密封作为旋转动密封，选择高精度大伸缩量的焊接波纹管进行移动密封，小直径轴的旋转密封选用“O”型密封圈或威尔逊密封，各种静密封则采用“0”型密封圈密封形式，直径压缩比为25％。

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真空镀膜系统

真空系统的产品特性：

1.真空度高、性能稳定、寿命长

2.流量：4-1300m3/hr（单台泵）

3.真空使用范围：0.5-500mbar（压力）

4.无需接入水源

5.结构紧凑，占地面积少

6.操作简单维护方便，噪音少

7.可实现多台机组PLC联控

8.可连接GDMS系统

9.符合欧洲CE EN737-3标准

真空系统性能特点：

该装置自*次启动后，全部运行过程可以实现全自动控制。其工作中，真空系统内各处的真空度始终在其允许范围内上下波动，其波动范围可根据用户要求进行调整。*台启动达不到真空时第二台启动至达到设定的真空值当达到后*台停再第二台停循环工作，该装置在无人操作情况下对系统进行自动控制，在停电时可自动封闭真空系统。同时控制箱可以保护真空泵马达过载及短路。

普诺克真空系统产品图

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