Quantum X 双光子无掩膜光刻系统厂家
产品简介
详细信息
Nanoscribe工业级高速灰度光刻微纳打印系统 - Quantum X
德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统 Quantum X ，并荣获创新奖。该系统是世界first基于双光子灰度光刻技术（2GL®）的精密加工微纳米打印系统，可应用于折射和衍射微光学。该系统的面世代表着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的Quantum X无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。
Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统技术要点
这项突破性的技术将微纳增材制造和超高速体素大小调节结合在一起：双光子灰度光刻(2GL)是一种具有超高速、超精确的可以满足自由形态的微加工技术，同时又不影响速度和精度。
Quantum X通过实时调制激光功率的技术在扫描平面上控制体素的大小。通过这种方式，具有复杂几何形状的结构可以被制造出来，同一物体中跨尺度的细节能够实现一步打印。无论是离散的，还是连续的复杂结构均可以在最大可达6英寸的晶圆片基板上精细打印，而不需要额外的光刻步骤或掩模制造。
Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统 - 多种*智能化解决方案：
·配备自动识别匹配不同物镜，样品架以及树脂的功能，有助于样品制备和硬件配置之间的切换，从而加快整个工作流程。
·配备从始至终的智能软件向导功能，以简化从初准备到创建打印作业的整个流程。
·配备三个实时监控摄像头可同时监管打印作业并支持直观操作。现在用户可以直接在内置触控屏上随时检查作业状态，控制打印过程并可随时显示和调整打印效果。
技术参数
产地：德国全进口
打印技术：双光子灰度光刻 （2GL)
三维横向特征尺度：160nm
**分辨率：400nm
小表面粗糙度：≤10nm
激光扫描速度：≤250mm/s