管式炉
产品简介
详细信息
一、产品特点：
化学气相沉积（CVD）系统主要用于材料的气相生长制备，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜工艺的制作设备。主要用于微电子方面的Si3N4,GaAs等薄膜，石墨烯、碳纳米材料的制备、半导体、光学材料、电池材料研发等领域，也可用于真空烧结、气氛保护烧结、材料还原等实验。
设备组成：化学气相沉积系统由管式炉、供气系统、真空机组组合而成。
二、技术参数：
基本配置：
一、产品特点：
化学气相沉积（CVD）系统主要用于材料的气相生长制备，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜工艺的制作设备。主要用于微电子方面的Si3N4,GaAs等薄膜，石墨烯、碳纳米材料的制备、半导体、光学材料、电池材料研发等领域，也可用于真空烧结、气氛保护烧结、材料还原等实验。
设备组成：化学气相沉积系统由管式炉、供气系统、真空机组组合而成。
二、技术参数：
基本配置：