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MIRA 第四代场发射扫描电子显微镜

MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能扫描电子显微镜，配置有高亮度肖特基场发射电子枪，在Essence™ 操作软件的同一个窗口中实现了 SEM 成像和实时元素分析。这种结合大大简化了从样品中获取形貌和元素数据的过程，从而使得MIRA 成为质量控制、失效分析和实验室常规材料检测的有效分析解决方案。

MIRA 具有创新的光学设计，确保在需要时可以随时无缝地选择成像或分析条件，而无需对镜筒内的任何元件重新进行机械对中；借助集成的 Essence™ EDS 软件，可以快速、轻松地从成像切换到分析操作模式，一键即可实现设置参数的更改。

主要特点

■集成的 Essence™ EDS 分析平台

在 Essence™ 软件的同一个窗口中实现 SEM 成像和实时元素分析；

拥有无光阑光路设计及实时电子束追踪技术(In-Flight Beam Tracing™)，可快速获得理想的成像和分析条件；

大视野光路（Wide Field Optics™）设计，可实现放大倍率低至2倍，因而无需额外的光学导航相机，即可轻松对样品进行定位导航；

标配的 SingleVac™ 模式，不导电样品或电子束敏感样品无需喷镀即可在此模式下直接进行观察；直观的模块化 Essence™ 软件，无论用户的经验水平如何，均可轻松操作；

■Essence™ 3D 防碰撞模型

可确保样品台和样品移动时安装在样品室内探测器的安全；

可选配的镜筒内 SE 和 BSE 探测器，以及电子束减速技术，更好的提升了低电压下的成像性能；

标准分析平台，可选配集成多种探测器和附件（如阴极荧光探测器，水冷背散射电子探测器或拉曼光谱仪等）。

■中间镜设计

MIRA 的镜筒中增加了一个特殊的透镜，使得电子束斑尺寸更小，进而提升大束流下的分辨率。这个的透镜--中间镜 (Intermediate  Lens™) 结合电子束追踪技术(In-Fight Beam Tracing™)，可确保操作者设定的束流值与真实作用在样品上的束流相一致。这对于需要大束流下进行的分析应用如EDS/EBSD/WDS等，以及必须在相同条件下进行重复实验或表征的需求尤其重要。

■更多的探测器和附件

MIRA  可以安装各类附件以满足特定的应用需求，同时还可以选配镜筒内 SE 和BSE 探测器以及电子束减速技术，进一步拓展了 MIRA 的分析能力，满足当前和未来在亚微米尺度的表征需求。选配镜筒内 SE 和 BSE 探测器后，即可同时获得包括样品室内SE、样品室内BSE、镜筒内SE及镜筒内BSE的4种不同衬度信号。电子束减速技术则可提升其成像能力，尤其是在低电压下的分辨率。

■全新的 Essence^TM 电镜控制软件

采用 Essence™ 多用户电镜操作软件，具有快速搜索、操作步骤撤销/重做和预设参数等功能，实现更高效的样品分析和表征。用户可以根据实际操作水平或特殊应用需求的不同在软件中自定义界面布局。另外，Essence™ 防碰撞模型软件虚拟出样品室内部，直观的显示样品室内的硬件的几何关系，样品台的大小和位置，以及样品和安装的其它附件。

■创新的 SingleVac ^TM 模式

SingleVac™ 模式是 MIRA 的标配功能，已为此模式预设了真空值，荷电样品无需喷镀也可以使用背散射电子探测器直接观察。同时还可以选配 UniVac™ 模式，该模式下可连续调节真空度可达 700 Pa，用于放电、放气及电子束敏感样品的二次电子和背散射电子成像。

案例分享

▲（左） 在低真空下获得的钻石生长纹的阴极荧光图像 ， 可以判断为天然或合成钻石；

（中 ）甲壳动物化石表面形貌细节 ， 在 2 kV 下成像；

（右） Scandian 地区矿物复杂共生关系的抗氧化物背散射电子图像。

▲SEM实时扫描窗口中，使用Essence™  EDS获得的石膏抛光界面上Ca（橙色）和Si（紫色）的面分布图