半导体材料表面缺陷检测仪
产品简介
详细信息
应用领域：
对半导体显示和集成电路芯片制造领域中空白掩膜版的工艺控制和良率管理，以高通量光学检测技术对空白掩膜版表面缺陷进行快速、准确的自动化检测，根据领域用户需求开发一系列质量可靠、高性价比的高通量MASK检查机，帮助玻璃基板、掩膜版和面板制造厂商识别和监控掩膜缺陷，降低良率风险，核心技术自主研发。
工作原理：
针对表面疵病等级和类型，选择四倍远心镜头，特定角度环光和同轴光源的视觉方式。设备运行时，样品沿X方向运动，视觉模组沿着Y方向进行缺陷检测。
性能参数：
| 型号 | SDD0.5-0.5 | |
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检测性能 | 可检瑕疵类型 | 划痕、灰尘 |
| 可检瑕疵尺寸 | 1μm | |
| 检出准确率（实测） | 检出瑕疵/采集瑕疵（划痕、灰尘）：99% | |
| 检测效率 | ≤10分钟 （实测350mm x 300mm 掩模版） | |
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光学系统性能 | 分辨率 | 1.8μm |
| 放大倍率 | 40倍 | |
| 视野 | 0.5mm x 0.5mm | |
| 蓝光照明 | 460nm，2.5w | |
| 运动平台性能 | · X、Y两轴运动 · 大理石台面平面度 2.5μm · Y轴Z向跳动精度 ≤10.5μm · Y轴Z向跳动精度 ≤8.5μm | |
| 备注：可按客户需求定制生产。 | ||