伯东代理电子束蒸镀设备
产品简介
详细信息
电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System
电子束蒸发与热蒸发对比, 能够在非常高的温度下熔化材料, 如钨, 石墨 ... 等等. 结合石英震荡片的反馈信号, 可轻松控制蒸发速率, 以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空. 因此, 电子束蒸发用于薄膜制程领域, 包括半导体, 光学, 太阳能电池板, 玻璃和建筑玻璃, 因此它们具有所需的导电, 反射, 透射和电子等特性. 上海伯东代理电子束蒸镀设备可以控制蒸发速率, 特殊的系统设计电子束沉积是一种实用且高度可靠的系统. 上海伯东代理电子束蒸镀设备可针对量产使用单一大坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构, 在基板乘载上我们对应半导体研究和大型设备设计, 单片和多片公自转的设计, 薄膜厚度和均匀度小于 +/- 3％.
上海伯东电子束蒸镀设备配置和优点
客制化的基板尺寸, zui大直径可达12寸晶圆
单载片或多载片 (2” x 32个，4” x 16个，6” x 6个，8” x 4个）
优异的薄膜均匀度小于±3％
具有水冷坩埚的多组坩锅旋转电子束源（1/2/4/6坩埚）
自动镀膜系统
具有顺序操作或共沉积的多个电子束源
基板具有冷却（液态氮温度低至-70°C）或加热（温度zui高800°C）等功能
为了获得最da的制程灵活性, 提供美国 KRI 离子源以进行离子辅助沉积或者预清洁等功能.
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上海伯东: 罗先生 中国台湾伯东: 王小姐