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IKN（上海）高速纳米分散机灵活性强，适用于各种粘稠度浆料，易清洁，操作简单，模块化结构易装卸，无易损件

纳米陶瓷粉体与传统的微米级粉体相比具有更高的比表面积，为了降低整个体系的界面能，巨大的比表面使得颗粒之间存在很强的团聚驱动力。图8.11是团聚粉体的示意图，团聚体内部存在小气孔，而团聚体之间存在较大尺寸的气孔。团聚根据性质不同可以分为“软团聚”和“硬团聚”。软团聚是由范德华力引起的，而硬团聚却是由粉体间的强键合引起的。团聚不仅会对素坯的成型性能有影响，同时对烧结温度、致密化行为、显微结构和陶瓷性能等都会有很大的影响。

　　团聚（特别是硬团聚）的形成会降低陶瓷的素坯密度，同时使素坯的堆积密度不均匀。实验和理论表明在团聚的粉体中是团聚体尺寸而不是晶粒尺寸决定致密他行为。团聚体的尺寸越大，团聚体之间的气孔也就越大。大尺寸的气孔增大了传质扩散的距离，从而降低了致密化速率:所以团聚体内部颗粒间的烧结温度低于团聚体之间的烧结温度，要使整个陶瓷致密化必须提高烧结温度，但是烧结温度的提高会破坏陶瓷的纳米结构。此外，团聚颗粒的存在势必加速晶粒的生长，这对陶瓷纳米结构的控制也是ji其不利的。因此纳米陶瓷粉体团聚的有效控制是制备纳米陶瓷的前提和基础。

　　但是由于纳米陶瓷粉体粒度小、表面原子比例大、表面能大、处于能量不稳定状态，因而很容易发生团聚，所以在粉体合成阶段、干燥和烧结过程中需要有效控制团聚的形成。

　　机械分散常被认为是zui简单的物理分散方法，它是借助外界剪切力或撞击力能使纳米粒子在介质中分散的一中方法。在机械搅拌下纳米粒子的特殊表面结构容易产生化学反应，形成有机化合物枝链或保护层，使得纳米粒子更易分散。普通国产分散机转速只有3000转，剪切力比较弱，分散后的粒径无法达到生产的标准，这也是很多客户头痛的地方。Ikn高剪切分散机在这方面有着得天独厚的优势，剪切速率可以超过14000 rpm，转子的速度可以达到44m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji高,无需其他辅助分散设备.

高速高剪切分散机由电动机、连接体、磨头等组成，用了三级错齿磨头定转 子，磨头定转子间隙在0.2-0.7mm之间，间隙可通过调节高速匀浆机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，高速研磨、分散效果会越好。

随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出分散设备-三级分散机。结构为三组分散头定转子，并且转速高达14000rpm，定转子经密度高，分散效率快，分散效果好。
 

IKN改进型高速剪切研磨分散机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过分散机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。

在设计上的突出优点在于：

1,转速zui高可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍：

2,磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。

3,德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4,CMSD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。

 CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

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