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井式/立式真空炉主要用于半导体器件烧结、封焊，太阳能电池片烘干、焊接及金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在氢氮保护下进行的工艺 。 井式真空炉主要技术参数  u真空室工位数：1-3位 u真空度：1Pa，加扩散泵为5x10-3Pa u工作温度：<1000℃ u充气的zui高压强：0.3Mpa（可控） u不锈钢内胆：Φ150-Φ350x1300mm（用户自定） u恒温区：600-1200mm±1℃ u控温方式：三点三段采用*高精度控温仪 u控温曲线：9段升降温/999小时 u工作方式：自动或手动自由转换 u单点精度：±1℃/24h u正压、负压均采用数字显示表 u可多工位同时工作