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中微半导体前三季度实现营收80.63亿元 薄膜设备业务暴涨1332.69%

2025-11-11 12:11:5311947
来源:化工仪器网
  近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称:中微半导体)公布2025 年第三季度报告。报告显示,公司2025年前三季度(1-9月)营业收入为80.63亿元,同比增长约46.4%;归母净利润为12.11亿元,同比增长约32.66%。其中,第三季度营业收入为31.02亿元,同比增长约50.62%;归母净利润为5.05亿元,同比增长约27.5%。
 
  根据报告,中微半导体前三季度业绩大涨,主要得益于刻蚀设备收入61.01亿元,同比增长约38.26%;LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元,同比增长约1332.69%。
 
  2025 年前三季度(1-9月)归属于上市公司股东的净利润为12.11亿元,较上年同期增长约2.98 亿元,同比增长约32.66%,主要原因为:
 
  1. 2025年前三季度营业收入增长46.40%下,毛利较上年增长约8.27亿元;
 
  2. 由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长,2025年公司显著加大研发力度,以尽快补短板,实现赶超,为持续增长打好基础。2025年前三季度公司研发支出较上年同期增长9.79亿元(增长约63.44%),研发支出占公司营业收入比例约为31.29%,远高于科创板均值;
 
  3. 由于市场波动,公司2025年前三季度计入非经常性损益的股权投资收益为3.29 亿元,较上年同期增加约2.75亿元。
 
  除此之外,中微半导体还根据市场需求,显著加大研发力度。2025年前三季度公司研发支出25.23亿元,较去年同期增长约63.44%,研发支出占公司营业收入比例约为31.29%。
 
  其中CCP方面,公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长,60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备,量产指标稳步提升,下一代90比1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场;ICP方面,适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备已经顺利进入市场,并且设备性能完全达到国际领先水平,薄膜设备的覆盖率不断增加。
 
  素材来源:中微半导体
 
  风险提示:市场有风险,投资需谨慎。本文内容仅供参考,不构成任何投资建议。据此投资,责任自负。读者应根据自身情况,谨慎作出投资决策。

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